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          科(ke)普(pu)壹(yi)下目(mu)前常(chang)用的(de)平(ping)面研(yan)磨拋(pao)光(guang)加工方法

          更新(xin)時間:2018-08-07      點(dian)擊(ji)次(ci)數(shu):5110

          目(mu)前常(chang)用的(de)平(ping)面研(yan)磨拋(pao)光(guang)加工方法有以(yi)下幾種(zhong):

            1.1機械(xie)拋光(guang)機械(xie)拋光(guang)是靠(kao)切削(xue)、材(cai)料(liao)表面塑(su)性變(bian)形(xing)去掉(diao)被拋光(guang)後的(de)凸(tu)部(bu)而(er)得到(dao)平滑(hua)面的(de)拋(pao)光(guang)方法,壹(yi)般(ban)使(shi)用油石條(tiao)、羊毛輪、砂(sha)紙等(deng),以(yi)手(shou)工(gong)操(cao)作(zuo)為(wei)主(zhu),特殊(shu)零(ling)件(jian)如(ru)回轉體表面,可使用轉臺等(deng)輔助(zhu)工(gong)具(ju),表面質量要求高(gao)的(de)可采用超精研(yan)拋的(de)方(fang)法。超精研(yan)拋是(shi)采用特制的(de)磨(mo)具(ju),在含有磨料(liao)的(de)研(yan)拋液(ye)中(zhong),緊(jin)壓在工件(jian)被加工表面上(shang),作(zuo)高(gao)速(su)旋(xuan)轉運(yun)動(dong)。利用該技(ji)術(shu)可以達(da)到Ra0.008μm的(de)表(biao)面粗(cu)糙度,是各(ge)種(zhong)拋光(guang)方法中高(gao)的(de)。光(guang)學(xue)鏡片模具(ju)常采用這種(zhong)方法。

            1.2化學(xue)拋光(guang)化學(xue)拋光(guang)是讓材料在化學(xue)介質中(zhong)表(biao)面微(wei)觀(guan)凸(tu)出(chu)的(de)部(bu)分(fen)較(jiao)凹部(bu)分(fen)優先溶(rong)解,從而得到(dao)平滑(hua)面。這(zhe)種(zhong)方法的(de)主(zhu)要優點是(shi)不需(xu)復雜(za)設備,可以拋(pao)光(guang)形(xing)狀復雜(za)的(de)工(gong)件(jian),可以同(tong)時拋(pao)光(guang)很多(duo)工件,效(xiao)率(lv)高(gao)。化(hua)學(xue)拋光(guang)的(de)核心問題(ti)是(shi)拋(pao)光(guang)液(ye)的(de)配(pei)制(zhi)。化(hua)學(xue)拋光(guang)得到(dao)的(de)表(biao)面粗(cu)糙度壹(yi)般(ban)為(wei)數(shu)10μm。

            1.3電解拋光(guang)電解拋光(guang)基(ji)本原理與(yu)化學(xue)拋光(guang)相(xiang)同,即靠(kao)選(xuan)擇性(xing)的(de)溶(rong)解材料表面微(wei)小凸(tu)出(chu)部(bu)分(fen),使表面光(guang)滑(hua)。與(yu)化學(xue)拋光(guang)相(xiang)比,可以消(xiao)除陰極反應(ying)的(de)影(ying)響,效果較(jiao)好。

            電(dian)化(hua)學(xue)拋光(guang)過程分為(wei)兩步:

            (1)宏觀整(zheng)平(ping)溶(rong)解產(chan)物(wu)向(xiang)電(dian)解液(ye)中(zhong)擴(kuo)散,材料表(biao)面幾何粗糙下降,Ra>1μm。

            (2)微(wei)光(guang)平整(zheng)陽(yang)極極化,表(biao)面光(guang)亮度提(ti)高(gao),Ra<1μm。

            1.4超(chao)聲(sheng)波拋光(guang)將工(gong)件放(fang)入磨(mo)料懸浮液(ye)中(zhong)並(bing)壹(yi)起(qi)置(zhi)於(yu)超(chao)聲(sheng)波(bo)場中,依(yi)靠(kao)超聲波(bo)的(de)振(zhen)蕩作(zuo)用,使磨(mo)料(liao)在工件(jian)表面磨(mo)削(xue)拋(pao)光(guang)。超聲(sheng)波加工宏觀力(li)小,不(bu)會(hui)引起(qi)工(gong)件變(bian)形(xing),但工裝(zhuang)制(zhi)作(zuo)和(he)安(an)裝(zhuang)較(jiao)困難(nan)。超聲(sheng)波加工可以與(yu)化學(xue)或電化學(xue)方法結(jie)合(he)。在溶(rong)液(ye)腐蝕(shi)、電(dian)解的(de)基(ji)礎(chu)上(shang),再(zai)施加超聲波振(zhen)動(dong)攪拌(ban)溶(rong)液(ye),使(shi)工(gong)件(jian)表面溶(rong)解產(chan)物(wu)脫離,表(biao)面附(fu)近(jin)的(de)腐蝕(shi)或電解質均(jun)勻;超聲(sheng)波(bo)在液(ye)體(ti)中(zhong)的(de)空(kong)化(hua)作(zuo)用還能(neng)夠(gou)抑(yi)制腐蝕(shi)過程,利於(yu)表(biao)面光(guang)亮化(hua)。

            1.5流體(ti)拋光(guang)流體(ti)拋光(guang)是依(yi)靠(kao)高(gao)速(su)流(liu)動(dong)的(de)液(ye)體(ti)及(ji)其攜(xie)帶的(de)磨(mo)粒(li)沖(chong)刷工件表面達(da)到(dao)拋(pao)光(guang)的(de)目(mu)的(de)。常(chang)用方法有:磨(mo)料(liao)噴(pen)射加工、液(ye)體(ti)噴(pen)射加工、流體動(dong)力研(yan)磨等(deng)。流(liu)體(ti)動(dong)力研(yan)磨是(shi)由氣動(dong)資料(liao)">液(ye)壓驅(qu)動(dong),使攜(xie)帶磨粒(li)的(de)液(ye)體(ti)介質高(gao)速(su)往復流(liu)過工件(jian)表(biao)面。介質主(zhu)要采用在較(jiao)低壓力(li)下流過性好(hao)的(de)特殊(shu)化(hua)合(he)物(wu)(聚(ju)合(he)物(wu)狀(zhuang)物(wu)質)並(bing)摻(chan)上(shang)磨(mo)料(liao)制(zhi)成(cheng),磨料(liao)可采用碳化(hua)矽粉末。

            1.6磁研(yan)磨拋(pao)光(guang)磁研(yan)磨拋(pao)光(guang)是利用磁性(xing)磨(mo)料在磁場(chang)作(zuo)用下形(xing)成磨(mo)料(liao)刷(shua),對(dui)工件(jian)磨(mo)削(xue)加工。這種(zhong)方法加工效率(lv)高(gao),質量好,加工條件容(rong)易控制(zhi),工(gong)作(zuo)條(tiao)件(jian)好。采用合適的(de)磨(mo)料(liao),表(biao)面粗(cu)糙度可以達(da)到Ra0.1μm。

            2機(ji)械(xie)拋光(guang)基(ji)本方(fang)法

            在塑(su)料模(mo)具(ju)加工中所(suo)說(shuo)的(de)拋(pao)光(guang)與(yu)其他行(xing)業(ye)中(zhong)所(suo)要求的(de)表(biao)面拋(pao)光(guang)有很大(da)的(de)不(bu)同(tong),嚴格來(lai)說(shuo),模具(ju)的(de)拋(pao)光(guang)應(ying)該稱(cheng)為(wei)鏡(jing)面加工。它不僅(jin)對(dui)拋光(guang)本身(shen)有(you)很高(gao)的(de)要求並且對(dui)表面平(ping)整(zheng)度、光(guang)滑(hua)度以及(ji)幾何度也(ye)有(you)很高(gao)的(de)標(biao)準。表面拋(pao)光(guang)壹(yi)般(ban)只要求獲(huo)得光(guang)亮的(de)表(biao)面即可。鏡面加工的(de)標(biao)準分為四級:AO=Ra0.008μm,A1=Ra0.016μm,A3=Ra0.032μm,A4=Ra0.063μm,由於(yu)電(dian)解拋光(guang)、流體(ti)拋光(guang)等(deng)方(fang)法很難(nan)控制(zhi)零(ling)件的(de)幾何度,而化(hua)學(xue)拋光(guang)、超聲(sheng)波拋光(guang)、磁研(yan)磨拋(pao)光(guang)等(deng)方(fang)法的(de)表(biao)面質量又達(da)不到(dao)要求,所(suo)以(yi)精密(mi)模具的(de)鏡(jing)面加工還是以(yi)機械(xie)拋光(guang)為主(zhu)。

            2.1機(ji)械(xie)拋光(guang)基(ji)本程序要想獲(huo)得高(gao)質量的(de)拋(pao)光(guang)效果,重(zhong)要的(de)是(shi)要具備有高(gao)質量的(de)油石、砂(sha)紙和(he)鉆(zuan)石(shi)研(yan)磨膏(gao)等(deng)拋(pao)光(guang)工具(ju)和(he)輔助(zhu)品(pin)。而(er)拋光(guang)程序的(de)選(xuan)擇取(qu)決(jue)於(yu)前(qian)期(qi)加工後的(de)表(biao)面狀(zhuang)況(kuang),如(ru)機械(xie)加工、電火花(hua)加工,磨加工等(deng)等(deng)

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